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日本電子X射線光電子能譜儀

日本電子X射線光電子能譜儀

型    號:JPS-9030型
所屬分類:能譜儀
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日本電子X射線光電子能譜儀是材料科學和發展的領域中最廣泛使用的表面分析技術。其原理是利用X射線束(一般會使鋁陽極或鎂陽極)作為入射源,照射在樣品表面導致讓光電子從原子的核心層被激發出。根據測得的光電子所發出的電子動能,再依照能量守恒定律就可以知道電子的結合能,從而也就可知道樣品表面是何物質。

日本電子X射線光電子能譜儀產品概述:

JPS-9030型X射線光電子能譜儀

X射線光電子能譜儀用于樣品表層元素及價態分析、深度分析、UPS紫外光電子能譜結構分析等

X射線光電子能譜儀

型號:JPS-9030

品牌:日本電子

產地:日本

制造商:日本電子

  • X 射線光電子能譜(XPS)是材料科學和發展的領域中最廣泛使用的表面分析技術。其原理是利用X射線束(一般會使鋁陽極或鎂陽極)作為入射源,照射在樣品表面導致讓光電子從原子的核心層被激發出。根據測得的光電子所發出的電子動能,再依照能量守恒定律就可以知道電子的結合能,從而也就可知道樣品表面是何物質。

  • 日本電子X射線光電子能譜儀功能用途:樣品表層元素及價態分析、深度分析、UPS紫外光電子能譜結構分析等

  • 日本電子X射線光電子能譜儀技術特點:具有多種非單色化及單色化的X射線源,大功率羅蘭圓提供更高的分析及能量分辨率,兼具Ar離子或Ar原子團簇模式刻蝕及紫外光電子能譜(UPS)測試等可選附件。

一臺電子能譜儀的基本組成由所研究的試樣、一個初級激發源和電子能量分析器組成。它們安裝在超高真空(UHV)下工作。實際上,經常再備有一個UHV室安裝各種試樣制備裝置,和可能的輔助分析裝置。此外還有數據采集與處理系統。 
(1)真空系統。電子能譜分析技術本身的表面靈敏度要求必須維持超高真空?,F代電子能譜儀采用離子泵獲得超高真空條件。所有超高真空系統都需要時常烘烤,以去除真空室內壁上的吸附層。
(2)試樣臺。試樣被固定在試樣臺上。試樣臺要求平穩,工作時無顫動。對AES在常規分析時,試樣應導電和接地。
(3)初級激發源。XPS和AES的初級激發源不同。
XPS的X射線源。X射線是用高能電子轟擊陽極靶材激發出來的。由燈絲發出的熱電子被加速到一定能量去轟擊陽極靶材,引起其原子內殼層電離。當較外層電子以輻射躍遷的方式填充內殼層空位時,釋放出具有特征能量的X射線。 
AES的電子槍。電子槍的關鍵部件是電子源及用于電子束聚焦、整形和掃描的透鏡組。電子源可以是熱電子發射體或冷場發射體;透鏡組可以是靜電型的,或用于高分辨率的電磁型的。21世紀初期,在AES能譜儀中,電磁透鏡和冷場發射電子源的結合,可提供小于10nm的電子束斑,所以空間分辨率很高。 
(4)電子能譜分析器。在XPS和AES中通常使用的能量分析器有兩種:筒鏡形能量分析器(CMA)和半球形能量分析器(HSA)。當不追求最高分辨率,且只是收集小區域(直徑小于1mm)內的譜時,采用CMA;不需要分析化學態時,則在AES中用CMA。通常CMA能達到的能量分辨率大約為0.4%~0.6%。HSA的分辨率通常要高一個數量級


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